Q150 等离子体去胶机

仪器名称: Q150 等离子体去胶机
仪器类型: 光刻&键合设备
应用领域: 可以基片表面活化,可去除不同厚度的光刻胶。
技术指标:
主腔室材料:石英;主腔室容积:6升;主腔室尺寸:直径150mm,深度260mm;工艺压力:1-100Pa;样品大小≤4英寸。
仪器品牌: Alpha
仪器型号: Q150
仪器厂家: Alpha Plasma
仪器设备所属平台: 厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院 微电子/石墨烯加工测试平台
仪器名称: Q150 等离子体去胶机
仪器类型: 光刻&键合设备
应用领域: 可以基片表面活化,可去除不同厚度的光刻胶。
技术指标:
主腔室材料:石英;主腔室容积:6升;主腔室尺寸:直径150mm,深度260mm;工艺压力:1-100Pa;样品大小≤4英寸。
仪器品牌: Alpha
仪器型号: Q150
仪器厂家: Alpha Plasma
仪器设备所属平台: 厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院 微电子/石墨烯加工测试平台