SI500 电感耦合等离子刻蚀机
仪器名称： SI500 电感耦合等离子刻蚀机
仪器类型： 刻蚀设备
应用领域： 特别适用于刻蚀在半导体（例如硅）衬底上的微纳结构和介质膜。
技术指标：
1、本底真空：<1x10-6mbar(7.6x10-4mTorr)。2、6路气体：六氟化硫、三氟甲烷、氩气、氧气、氮气（吹扫用）、氦气（背冷却用）。3、样品通过预真空室装载，碎片需使用载片器（托盘）。取-放系统保证了衬底操作的洁净与安全。预真空室有可编程的吹扫循环工艺、确保操作者安全和腔室洁净。4、一个射频发生器（13.56 MHz, 600 W）用于下电极偏置，另一个用于驱动ICP源（13.56 MHz, 1200 W）。5、样品尺寸：≤9英寸。
仪器品牌： SENTECH
仪器型号： SI 500
仪器厂家： SENTECH公司
仪器设备所属平台： 厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院 微电子/石墨烯加工测试平台
